2008年以來(lái),無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司團(tuán)隊(duì)陸續(xù)開(kāi)發(fā)了氧化釩薄膜沉積、吸氣薄膜沉積等核心技術(shù),打破了國(guó)外公司壟斷地位,國(guó)內(nèi)市占率>80%。2020年初,應(yīng)國(guó)內(nèi)某行業(yè)頭部公司的邀請(qǐng),自主設(shè)計(jì)了國(guó)產(chǎn)的PVD設(shè)備。
無(wú)錫尚積專注于國(guó)產(chǎn)化率較低的薄膜沉積和刻蝕工藝, 繼續(xù)打破壟斷,為用戶提供Turnkey Solution,追求創(chuàng)新與卓越。
經(jīng)營(yíng)地址是無(wú)錫市新吳區(qū)長(zhǎng)江南路35-312號(hào)廠房。核心團(tuán)隊(duì)為中國(guó)早期半導(dǎo)體技術(shù)從業(yè)者,來(lái)自于業(yè)內(nèi)有名的半導(dǎo)體制造公司和國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備制造商,具備創(chuàng)始人超二十年、其他核心人員平均超十年的半導(dǎo)體行業(yè)從業(yè)經(jīng)驗(yàn)。
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