崗位職責(zé):
1.非常熟悉精通晶圓廠先進(jìn)光刻制程工藝,負(fù)責(zé)整個(gè)產(chǎn)品線光刻工
藝的開發(fā)及導(dǎo)入,建立新工藝驗(yàn)證標(biāo)準(zhǔn);
2.負(fù)責(zé)對新工藝實(shí)施過程進(jìn)行監(jiān)控,及時(shí)發(fā)現(xiàn)、解決有關(guān)工藝問題;
3.建立光刻工藝管理系統(tǒng)以確保工藝穩(wěn)定性,并對產(chǎn)品質(zhì)量做出持
續(xù)改善;
4.負(fù)責(zé)光刻工藝的優(yōu)化,成本的控制以及產(chǎn)品良率的提升;新物料、
新工藝流程的評估和導(dǎo)入;
5.負(fù)責(zé)光刻工藝相關(guān)的技術(shù)培訓(xùn);
任職要求:
1.本科及以上學(xué)歷,微電子,電子工程、光學(xué)、物理等理工科相關(guān)
專業(yè)優(yōu)先。畢業(yè)于國內(nèi)外知名院校,具備扎實(shí)的理論基礎(chǔ)與系統(tǒng)的專業(yè)知識體系。
2.在半導(dǎo)體晶圓廠工作經(jīng)驗(yàn)本科5年及、碩士3年以上,擁有豐富的半導(dǎo)體晶圓廠先進(jìn)制程經(jīng)驗(yàn),深度參與過多個(gè)大型半導(dǎo)體制造項(xiàng)目,對行業(yè)發(fā)展趨勢、技術(shù)前沿與市場動(dòng)態(tài)有著敏銳的洞察力與深刻的理解,12吋優(yōu)先。
3.具備卓越的工藝分析與解決復(fù)雜工藝問題的能力,具備設(shè)計(jì)和管
理DOE實(shí)驗(yàn),分析數(shù)據(jù)、提取結(jié)論并完成報(bào)告的能力。
4.擁有豐富的光刻工藝開發(fā)及應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),熟練掌握項(xiàng)目管理工具與
方法,能夠高效組織、協(xié)調(diào)跨部門團(tuán)隊(duì)完成工藝開發(fā)及解決工藝問題。具備出色的團(tuán)隊(duì)協(xié)作精神與溝通能力,能夠與研發(fā)、制程整合、生產(chǎn)、質(zhì)量等多部門團(tuán)隊(duì)緊密合作,共同攻克技術(shù)難關(guān),實(shí)現(xiàn)項(xiàng)目目標(biāo)。
5.具備良好的工程管理能力及風(fēng)險(xiǎn)評估能力,較強(qiáng)的分析能力和創(chuàng)
新能力,良好的溝通能力和團(tuán)隊(duì)組織能力。