崗位職責(zé)：

1.激光直寫設(shè)備工藝開發(fā)、日常維護(hù)與保養(yǎng)工作。

2.大幅面直寫工藝開發(fā)；

3.三維微納結(jié)構(gòu)光刻工藝開發(fā)；

4.投影光刻工藝開發(fā)；

任職要求：

1.本科及以上學(xué)歷，化學(xué)、微電子等相關(guān)專業(yè)，或有直接相關(guān)工作經(jīng)驗(yàn)者；

2. 8年以上直寫光刻工藝開發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，熟悉直寫光刻、接觸光刻和投影光刻原理；

3.熟悉光刻膠各技術(shù)指標(biāo)對(duì)光刻性能的影響；

4.精通大幅面直寫曝光和接觸式曝光設(shè)備、工藝；

5.具備豐富的產(chǎn)業(yè)化工藝開發(fā)、操作和生產(chǎn)管理經(jīng)驗(yàn)。